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 Effect of Magnetron Sputtering Power on ITO Film Deposition at Room Temperature 室温磁控溅射功率对ITO薄膜沉积的影响
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期刊：Russian Microelectronics 作者：А В Саенко; З. Е. Вакулов; В. С. Климин; G. E. Bilyk; S. P. Malyukov 出版日期：2023-08-01 |
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