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Coupled Investigation of Contact Potential and Microstructure Evolution of Ultra-Thin AlOx for Crystalline Si Passivation
用于晶体硅钝化的超薄AlOx接触电位与微观结构演化的耦合研究
相关领域
材料科学
钝化
晶体硅
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期刊:Nanomaterials 作者:Zhen Zheng; Junyang An; Ruiling Gong; Yuheng Zeng; Jichun Ye; et al 出版日期:2021-07-12 |
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