标题 |
Efficient measurement and optical proximity correction modeling to catch lithography pattern shift issues of arbitrarily distributed hole layer
捕捉任意分布空穴层光刻图案偏移问题的有效测量和光学邻近校正建模
相关领域
平版印刷术
图层(电子)
光学
光电子学
计算机科学
材料科学
物理
纳米技术
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Frontiers of Mechanical Engineering 作者:Yaobin Feng; Jiamin Liu; Zhiyang Song; Hao Jiang; Shiyuan Liu 出版日期:2024-07-19 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|