| 标题 |
[高分]
 学位论文 Advantages of using PVD two-step titanium nitride barrier process and the impact of residual by-products from tungsten film deposition on process integration due to non-uniformity of the tungsten film PVD两步氮化钛阻挡工艺的优点及钨膜不均匀性对工艺集成的影响
相关领域
钨
材料科学
冶金
沉积（地质）
钛
氮化钛
过程（计算）
氮化物
复合材料
计算机科学
图层（电子）
地质学
沉积物
操作系统
古生物学
|
| 网址 | |
| DOI |
暂未提供，该求助的时间将会延长，查看原因？
|
| 其它 | University of Arkansas ProQuest Dissertations Publishing, 2002. 3055345. |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
毛豆
sissiarno
Ganlou
良辰
maox1aoxin
123
lalala
丰知然
cocolu
mhl11
从容芮
36456657
Singularity
彭于彦祖
子车茗
萧水白
模糊中正
Billy
shinysparrow
杳鸢
皖公网安备34019202002308
