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 Individual Effects of Various Plasma-Related Factors on the High Aspect Ratio Oxide Etching Process at Low-Frequency Bias Power Using an Inductively Coupled Plasma System 不同等离子体相关因素对低频偏置功率下电感耦合等离子体系统高纵横比氧化物刻蚀工艺的影响
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期刊：Plasma Chemistry and Plasma Processing 作者：Hye Jun Son; Alexander Efremov; Gilyoung Choi; Kwang‐Ho Kwon 出版日期：2023-08-08 |
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