标题 |
Influence of current density on constant current electric field enhanced aluminum induced crystallization of amorphous silicon thin films
电流密度对恒流电场增强铝诱导非晶硅薄膜晶化的影响
相关领域
材料科学
焦耳加热
硅
薄膜
多晶硅
非晶硅
无定形固体
退火(玻璃)
结晶
基质(水族馆)
分析化学(期刊)
电场
共晶体系
复合材料
图层(电子)
光电子学
纳米技术
晶体硅
结晶学
薄膜晶体管
化学工程
微观结构
化学
海洋学
物理
地质学
工程类
量子力学
色谱法
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Thin Solid Films 作者:Young Jun Choi; Kyongtae Ryu; Hee-Lak Lee; Seung-Jae Moon 出版日期:2023-08-01 |
求助人 | |
下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|