Deposition and properties of nickel oxide films produced by DC reactive magnetron sputtering

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标题	Deposition and properties of nickel oxide films produced by DC reactive magnetron sputtering 直流反应磁控溅射氧化镍薄膜的沉积及性能相关领域非阻塞I/O 电阻率和电导率材料科学微晶无定形固体溅射镍氧化镍溅射沉积分析化学（期刊）沉积（地质）氧化物化学计量学薄膜金属冶金化学纳米技术环境化学结晶学物理化学催化作用古生物学工程类电气工程生物生物化学沉积物
网址	https://doi.org/10.1016/s0042-207x(98)00190-0
DOI	10.1016/s0042-207x(98)00190-0 doi
其它	期刊：Vacuum 作者：Ivan Hotový; J. Huran; Ján Janík; A.P. Kobzev 出版日期：1998-10-01
求助人	兔毛毛在 2024-11-03 20:56:40 发布自江苏，悬赏 10 积分
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