Fabrication of the low-k films with tunable k value as spacers in advanced CMOS technology

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标题	Fabrication of the low-k films with tunable k value as spacers in advanced CMOS technology 用先进CMOS技术制备k值可调的低k薄膜作为间隔层相关领域材料科学制作退火（玻璃）原子层沉积电介质泄漏（经济）硅烷电容高-κ电介质等离子体纳米技术 CMOS芯片分析化学（期刊）光电子学薄膜复合材料化学电极有机化学医学替代医学病理物理物理化学量子力学经济宏观经济学
网址	https://doi.org/10.1116/6.0003357
DOI	10.1116/6.0003357 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films 作者：Lewen Qian; Xin Sun; Tao Liu; Ziqiang Huang; Xinlong Guo; et al 出版日期：2024-02-29
求助人	Yan 在 2024-10-10 22:50:52 发布自上海，悬赏 10 积分
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