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![]() 通过缓冲氧化物蚀刻剂处理的PDMS印模和SiO2衬底之间的粘附进行简单图案化
相关领域
聚二甲基硅氧烷
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期刊:Advanced Functional Materials 作者:Yong Kyun Kim; G. T. Kim; J. S. Ha 出版日期:2007-07-26 |
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