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P‐6.4: Black photoresist for flexible film with broad taper angle, high OD and very high electric resistivity
P-6.4:用于具有宽锥角、高OD和非常高电阻率的柔性膜的黑色光致抗蚀剂
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期刊:SID Symposium Digest of Technical Papers 作者:Akihiko Igawa; Chia-Hui Lin; Ming‐Ann Hsu 出版日期:2018-04-01 |
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