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标题
Effect of Metallic Ion Implantation on Dark Current Distributions of Silicon-Based CMOS Image Sensors
金属离子注入对硅基CMOS图像传感器暗电流分布的影响
相关领域
暗电流 硅 CMOS芯片 电流（流体） 图像传感器 离子注入 光电子学 材料科学 离子 电流密度 电子工程 电气工程 计算机科学 人工智能 物理 工程类 光电探测器 量子力学
网址
https://doi.org/10.1109/sensors60989.2024.10784529
DOI
10.1109/sensors60989.2024.10784529 doi
其它 期刊：IEEE Sensors
作者：Juan Esteban Montoya Cardona; Sylvain Joblot; Pierre Kermagoret; Grégoire Ducotey; Stéphane Hardillier; et al
出版日期：2024-10-20
求助人
Evan 在 2024-12-23 18:57:17 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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