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标题
Designing Rewritable Dual‐Mode Patterns using a Stretchable Photoresponsive Polymer via Orthogonal Photopatterning
利用可拉伸光响应聚合物通过正交光图案化设计可重写双模图案
相关领域
材料科学 制作 双模 光子学 光电子学 纳米技术 极化（电化学） 电子工程 医学 工程类 病理 物理化学 化学 替代医学
网址
https://doi.org/10.1002/adma.202202150
AI链接 nih.govdoi.org
DOI
10.1002/adma.202202150 doi
其它 期刊：Advanced Materials
作者：Wencong Xu; Chengwei Liu; Shuofeng Liang; Dachuan Zhang; Yazhi Liu; et al
出版日期：2022-06-01
求助人
雪白语海 在 2025-01-07 22:20:51 发布自湖南，悬赏 10 积分
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