| 标题 |
 Compatibility between polymethacrylate-based extreme ultraviolet resists and TiO2 area-selective deposition 聚甲基丙烯酸酯基极紫外抗蚀剂与TiO2区域选择性沉积的相容性
相关领域
抵抗
极紫外光刻
极端紫外线
材料科学
X射线光电子能谱
甲基丙烯酸
光刻
甲基丙烯酸酯
聚合物
化学工程
化学
纳米技术
光学
复合材料
共聚物
激光器
工程类
物理
图层（电子）
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Journal of micro/nanopatterning, materials, and metrology 作者：Rachel A. Nye; Kaat Van Dongen; Hironori Oka; Danilo De Simone; Gregory N. Parsons; et al 出版日期：2022-11-04 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
鸟兽兽
大力的灵雁
马逑生
Criminology34
无极微光
GingerF
感性的妙菡
小崇
lili
从容芮
愔愔
763
纳若w
披着羊皮的狼
嘉心糖
怡然的自中
干净的琦
只争朝夕
学术文献互助
平常丝
皖公网安备34019202002308