Growth and characterization of Si-doped Ga2O3 thin films by remote plasma atomic layer deposition: Toward UVC-LED application

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标题	Growth and characterization of Si-doped Ga2O3 thin films by remote plasma atomic layer deposition: Toward UVC-LED application 远程等离子体原子层沉积法生长和表征掺硅Ga2O3薄膜：UVC-LED应用相关领域材料科学薄膜 X射线光电子能谱三甲基镓分析化学（期刊）兴奋剂椭圆偏振法退火（玻璃）硅碳膜电阻率和电导率图层（电子）纳米技术金属有机气相外延光电子学化学工程外延化学复合材料电气工程工程类色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/j.surfcoat.2022.128252
DOI	10.1016/j.surfcoat.2022.128252 doi
其它	期刊：Surface & Coatings Technology 作者：Xiao-Ying Zhang; Yue Yang; Wei-Hang Fan; Chen Wang; Wan-Yu Wu; et al 出版日期：2022-02-01
求助人	布喜娅玛拉在 2024-08-09 16:11:50 发布自山东，悬赏 10 积分
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