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Hf-Based High-kDielectrics: Process Development, Performance Characterization, and Reliability
高频基高分子电介质:工艺发展、性能表征和可靠性
相关领域
随时间变化的栅氧化层击穿
材料科学
介电强度
击穿电压
双层
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可靠性(半导体)
高-κ电介质
压力(语言学)
电介质
光电子学
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期刊:Synthesis Lectures on Solid State Materials and Devices 作者:Young-Hee Kim; Jack C. Lee 出版日期:2006-06-08 |
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