Non-contact Post-CMP megasonic cleaning of cobalt wafers

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标题	Non-contact Post-CMP megasonic cleaning of cobalt wafers 钴晶片CMP后的非接触式兆超声清洗相关领域化学机械平面化材料科学薄脆饼图层（电子）纳米颗粒钴化学工程体积流量吸附湿法清洗纳米技术扩散光电子学复合材料冶金化学有机化学工程类物理热力学量子力学
网址	https://doi.org/10.1016/j.mssp.2022.107278
DOI	10.1016/j.mssp.2022.107278 doi
其它	期刊：Materials Science in Semiconductor Processing 作者：Lifei Zhang; Xinchun Lu; Ahmed Busnaina 出版日期：2023-03-01
求助人	包包包在 2024-08-14 20:01:32 发布自浙江，悬赏 10 积分
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