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 Effect of SF6 Plasma Etching on the Optical, Morphological and Structural Properties of SiC Films SF6等离子体刻蚀对SiC薄膜光学、形貌和结构性能的影响
相关领域
材料科学
反应离子刻蚀
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期刊：Silicon 作者：Nierlly Karinni de Almeida Maribondo Galvão; Armstrong Godoy; Aledir Silveira Pereira; Gislene Valdete Martins; Rodrigo Sávio Pessoa; et al 出版日期：2023-08-10 |
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