Monodispersion of SiO2/CeO2 Binary Nano-Abrasives with Adjustable Size in Chemical Mechanical Polishing Performance of Copper - 科研通

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标题	Monodispersion of SiO2/CeO2 Binary Nano-Abrasives with Adjustable Size in Chemical Mechanical Polishing Performance of Copper 尺寸可调SiO2/CeO2二元纳米磨料的单分散对铜的化学机械抛光性能相关领域化学机械平面化材料科学抛光磨料 X射线光电子能谱复合数泥浆表面粗糙度复合材料化学工程铜介孔材料冶金催化作用工程类化学生物化学
网址	https://doi.org/10.1149/2162-8777/acdffc
DOI	10.1149/2162-8777/acdffc doi
其它	期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology 作者：Ning Shi; Yali Chen; Li Yin; Yumeng Wang; Zeni Zheng; et al 出版日期：2023-06-20
求助人	monicaj 在 2025-04-02 02:43:03 发布，悬赏 10 积分
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