First-principles simulations of copper diffusion in tantalum and tantalum nitride

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标题	First-principles simulations of copper diffusion in tantalum and tantalum nitride 铜在钽和氮化钽中扩散的第一性原理模拟相关领域氮化钽钽扩散阻挡层材料科学扩散空位缺陷离子键合氮化物铜化学物理活化能共价键凝聚态物理结晶学纳米技术热力学物理化学离子冶金化学图层（电子）物理有机化学
网址	https://doi.org/10.1103/physrevb.79.214104
DOI	10.1103/physrevb.79.214104 doi
其它	期刊：Physical Review B 作者：Yi Zhao; Gang Lü 出版日期：2009-06-03
求助人	我爱背单词在 2025-03-17 23:24:27 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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