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 Unprecedented atomic surface of silicon induced by environmentally friendly chemical mechanical polishing 环境友好化学机械抛光诱导硅的前所未有的原子表面
相关领域
材料科学
硅
化学工程
微电子
表面粗糙度
X射线光电子能谱
化学机械平面化
半导体
抛光
纳米技术
图层（电子）
复合材料
光电子学
工程类
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| 其它 |
期刊：Nanoscale 作者：Xiaoxiao Cui; Zhenyu Zhang; Shiqiang Yu; Xin Chen; Chunjing Shi; et al 出版日期：2023-01-01 |
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