| 标题 |
Overall Equipment Efficiency (OEE) improvements for lithographic tools in wafer fab
晶圆厂光刻工具整体设备效率（OEE）的改进
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期刊：International Symposium on Semiconductor Manufacturing 作者：Yen-Fei Lee; Ko Chen-Pin; Chang Hsu-Sheng; Muhammad Shariff; Ng Kok Hooi; et al 出版日期：2008-10-01 |
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