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 Helium Ion‐Assisted Wet Etching of Silicon Carbide with Extremely Low Roughness for High‐Quality Nanofabrication 氦离子辅助湿法刻蚀极低粗糙度碳化硅制备高质量纳米材料
相关领域
材料科学
蚀刻（微加工）
纳米光刻
碳化硅
反应离子刻蚀
制作
纳米技术
离子束
抵抗
各向同性腐蚀
光电子学
离子
化学
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医学
替代医学
有机化学
病理
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期刊：Small methods 作者：Xiaolei Wen; Lansheng Zhang; Xiuxia Wang; Cheng-Huang Lin; Junqi Sun; et al 出版日期：2024-01-07 |
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