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标题
Reduction in plasma potential by applying negative DC cathode bias in RF magnetron sputtering
射频磁控溅射中负直流阴极偏压降低等离子体电位
相关领域
阴极 等离子体 氩 溅射 偏压 溅射沉积 原子物理学 材料科学 腔磁控管 化学 电子 分析化学（期刊） 光电子学 电压 薄膜 电气工程 纳米技术 物理 物理化学 工程类 色谱法 量子力学
网址
https://doi.org/10.7567/jjap.55.116201
DOI
10.7567/jjap.55.116201 doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Masao Isomura; Toshinori Yamada; Kosuke Osuga; Haruo Shindo
出版日期：2016-10-11
求助人
归有 在 2024-12-29 11:34:58 发布自广东，悬赏 10 积分
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  • 1天前

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  • 1天前

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