Highly Selective Etching between Different Oxide Films by Vapor Phase Cleaning

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标题	Highly Selective Etching between Different Oxide Films by Vapor Phase Cleaning 通过气相清洗在不同氧化膜之间进行高选择性蚀刻相关领域材料科学氧化物蚀刻（微加工）吸附化学工程化学气相沉积相（物质）气相沉积（地质）气相水蒸气图层（电子）纳米技术有机化学化学冶金生物古生物学工程类沉积物物理热力学
网址	https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/ssp.314.101
DOI	10.4028/www.scientific.net/ssp.314.101 doi
其它	期刊：Solid State Phenomena 作者：Kazuki Nishihara; Masaki Inaba; Hiroaki Takahashi 出版日期：2021-02-01
求助人	地理在 2024-11-13 15:56:11 发布自广东，悬赏 30 积分
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