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 Atomic layer deposition of oxide semiconductor thin films for transistor applications: a review 晶体管用氧化物半导体薄膜的原子层沉积研究进展
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期刊：Journal of Materials Chemistry C 作者：Inhong Hwang; Minki Choe; Dahui Jeon; I. G. Baek 出版日期：2024-01-01 |
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