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标题
Investigation of Optimum Deposition Conditions of Radio Frequency Reactive Magnetron Sputtering of Al0.7Sc0.3N Film with Thickness down to 20 nm
射频反应磁控溅射20nm以下Al0.7Sc 0.3 N薄膜最佳沉积条件的研究
相关领域
材料科学 铁电性 矫顽力 溅射 结晶度 分析化学（期刊） 复合材料 溅射沉积 薄膜 电介质 凝聚态物理 纳米技术 光电子学 化学 物理 色谱法
网址
http://dx.doi.org/10.1002/aelm.202200726
DOI
10.1002/aelm.202200726 doi
求助人
春与修罗 在 2024-12-19 14:05:27 发布自广东，悬赏 10 积分
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