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标题
Effects of post‐deposition annealing on chemical composition of SiNx film in SiO2/SiNx/SiO2/Si stacked structure
沉积后退火对SiO2/SiNx/SiO2/Si堆叠结构中SiNx薄膜化学成分的影响
相关领域
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网址
https://doi.org/10.1002/sia.7078
DOI
10.1002/sia.7078 doi
其它 期刊：Surface and Interface Analysis
作者：Tadayoshi Sakata; Shingo Ogawa; Keiko Inoue; Yumiko Shimizu; Yusaku Tanahashi
出版日期：2022-02-21
求助人
skyfall 在 2024-12-23 09:27:42 发布自江苏，悬赏 10 积分
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