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Progress in Polyhedral Oligomeric Silsesquioxane (POSS) Photoresists: A Comprehensive Review across Lithographic Systems
多面体低聚倍半硅氧烷（POSS）光刻胶的研究进展
相关领域
倍半硅氧烷 平版印刷术 极紫外光刻 材料科学 光刻胶 抵抗 倍半硅氧烷氢 纳米压印光刻 纳米技术 光刻 计算光刻 X射线光刻 多重图案 聚合物 光电子学 电子束光刻 复合材料 制作 图层（电子） 医学 替代医学 病理
网址
http://dx.doi.org/10.3390/polym16060846
AI链接 mdpi.com mdpi.com nih.gov nih.govdoi.org
DOI
10.3390/polym16060846 doi
求助人
李思 在 2025-01-22 10:59:03 发布自四川，悬赏 10 积分
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