标题 |
Structural and Fluorine Plasma Etching Behavior of Sputter-Deposition Yttrium Fluoride Film
溅射沉积氟化钇薄膜的结构和氟等离子体刻蚀行为
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材料科学
钇
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期刊:Nanomaterials 作者:Weikai Wang; Yu-Xiu Lin; Yi-Jie Xu 出版日期:2018-11-14 |
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