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标题
Structural and Fluorine Plasma Etching Behavior of Sputter-Deposition Yttrium Fluoride Film
溅射沉积氟化钇薄膜的结构和氟等离子体刻蚀行为
相关领域
材料科学 高分辨率透射电子显微镜 分析化学(期刊) 基质(水族馆) X射线光电子能谱 溅射沉积 蚀刻(微加工) 溅射 等离子体刻蚀 薄膜 透射电子显微镜 化学工程 复合材料 纳米技术 冶金 化学 氧化物 工程类 地质学 海洋学 色谱法 图层(电子)
网址
DOI
10.3390/nano8110936 doi
其它 期刊:Nanomaterials
作者:Weikai Wang; Yu-Xiu Lin; Yi-Jie Xu
出版日期:2018-11-14
求助人
鲤鱼紫易 在 2025-01-10 10:34:11 发布自湖南,悬赏 10 积分
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