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标题
Atomic Layer Deposition of Hexagonal Boron Nitride Thin Films at Low Temperature
六方氮化硼薄膜的低温原子层沉积
网址
http://dx.doi.org/10.1021/acs.chemmater.9b01234
DOI
10.1021/acs.chemmater.9b01234 doi
其它 低温ALD制备六方氮化硼（h-BN）薄膜
标题: "Atomic Layer Deposition of Hexagonal Boron Nitride Thin Films at Low Temperature"

期刊: Chemistry of Materials (2019)

作者: J. Kim et al.

亮点:

使用三乙基硼烷（TEB）和等离子体活化的氨气（NH₃）作为前驱体，在200°C以下实现h-BN生长。

薄膜具有高结晶性和低缺陷密度，适用于二维电子器件。

DOI: 10.1021/acs.chemmater.9b01234
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