Suppression and characterization of interface states at low-pressure-chemical-vapor-deposited SiN /III-nitride heterostructures

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标题	Suppression and characterization of interface states at low-pressure-chemical-vapor-deposited SiN /III-nitride heterostructures 低压化学气相沉积SiN/III-氮化物异质结构界面态的抑制与表征相关领域化学气相沉积材料科学异质结光电子学深能级瞬态光谱氮化硅饱和（图论）等离子体增强化学气相沉积电介质硅数学组合数学
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2020.148530
DOI	10.1016/j.apsusc.2020.148530 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Kexin Deng; Xinhua Wang; Sen Huang; Haibo Yin; Jie Fan; et al 出版日期：2021-03-01
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