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标题
Mobility and stability improvements through in-situ AlOx passivation on extremely thin 2-nm-thick InOx back-gate FETs
通过原位AlOx钝化提高2纳米厚InOx背栅FET的迁移率和稳定性
相关领域
钝化 材料科学 原子层沉积 图层（电子） 化学气相沉积 薄膜 磁滞 光电子学 电子迁移率 分析化学（期刊） 纳米技术 化学 物理 量子力学 色谱法
网址
https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/ad9bba
DOI
10.35848/1347-4065/ad9bba doi
其它 期刊：Japanese Journal of Applied Physics
作者：Chia-Tsong Chen; Wen-Hsin Chang; Toshifumi IRISAWA; Tatsuro MAEDA
出版日期：2024-12-10
求助人
大橙子 在 2024-12-21 13:56:14 发布自云南，悬赏 10 积分
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