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标题
Temperature‐Dependent Properties of Atomic Layer Deposition‐Grown TiO2 Thin Films
原子层沉积TiO2薄膜的温度相关性质
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材料科学 原子层沉积 薄膜 图层（电子） 沉积（地质） 原子层外延 化学工程 纳米技术 化学物理 古生物学 物理 沉积物 工程类 生物
网址
https://doi.org/10.1002/admi.202400855
AI链接 doi.orgdoi.org
DOI
10.1002/admi.202400855 doi
其它 期刊：Advanced Materials Interfaces
作者：Nimarta Kaur Chowdhary; Theodosia Gougousi
出版日期：2025-01-07
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zzcherished 在 2025-02-07 11:16:58 发布自上海，悬赏 10 积分
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