Suppression of interface states between nitride-based gate dielectrics and ultrathin-barrier AlGaN/GaN heterostructure with in situ remote plasma pretreatments - 科研通

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标题	Suppression of interface states between nitride-based gate dielectrics and ultrathin-barrier AlGaN/GaN heterostructure with in situ remote plasma pretreatments 原位远程等离子体预处理抑制氮化物基栅极电介质与超薄势垒AlGaN/GaN异质结构之间的界面态相关领域材料科学光电子学异质结电介质原子层沉积氮化硅栅极电介质宽禁带半导体氮化物阻挡层晶体管制作半导体硅图层（电子）纳米技术电气工程电压工程类病理替代医学医学
网址	https://doi.org/10.1063/5.0041421
DOI	10.1063/5.0041421 doi
其它	期刊：Applied Physics Letters 作者：Fuqiang Guo; Sen Huang; Xinhua Wang; Tiantian Luan; Wen Shi; et al 出版日期：2021-03-01
求助人	英勇冥王星在 2024-11-29 15:53:46 发布自江苏，悬赏 10 积分
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