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标题
Thick-mask model based on multi-channel U-Net for EUV lithography
基于多通道U-Net的EUV光刻厚掩模模型
相关领域
极紫外光刻 平版印刷术 衍射 光刻 光学 网（多面体） 计算机科学 频道（广播） 微控制器 X射线光刻 材料科学 物理 抵抗 计算机硬件 纳米技术 数学 电信 几何学 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1117/12.2657246
DOI
10.1117/12.2657246 doi
其它 期刊：
作者：Chengzhen Yu; Xu Ma
出版日期：2023-04-28
求助人
勤劳怜寒 在 2025-02-11 10:34:45 发布自四川，悬赏 20 积分
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