Atomic layer etching in HBr/He/Ar/O2 plasmas

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标题	Atomic layer etching in HBr/He/Ar/O2 plasmas ZR/He/Arr/O2等离子体中的原子层腐蚀相关领域等离子体蚀刻（微加工）图层（电子）原子物理学材料科学纳米技术物理量子力学
网址	https://doi.org/10.1116/6.0003593
DOI	10.1116/6.0003593 doi
其它	期刊：Journal of vacuum science & technology 作者：Qinzhen Hao; Mahmoud A. I. Elgarhy; Pilbum Kim; Sang Ki Nam; Song-Yun Kang; et al 出版日期：2024-05-06
求助人	冷傲萧在 2024-11-25 09:55:51 发布自四川，悬赏 10 积分
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