标题 |
Oxygen Plasma Treatment of Thermally Evaporated MoO3-x Films: An Approach to Tune the Work Function
热蒸发MoO3-x薄膜的氧等离子体处理:一种调节功函数的方法
相关领域
工作职能
氧气
薄膜
分析化学(期刊)
材料科学
等离子体
钼
化学
纳米技术
冶金
色谱法
物理
有机化学
图层(电子)
量子力学
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其它 |
期刊:ACS applied electronic materials 作者:Juhi Kumari; Jai Shree Bhardwaj; Rahul; Pratima Agarwal 出版日期:2023-07-26 |
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