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Virtual Metrology for Etch Profile in Silicon Trench Etching With SF₆/O₂/Ar Plasma
SF₆/O₂/Ar等离子体刻蚀硅沟槽刻蚀轮廓的虚拟测量
相关领域
蚀刻(微加工)
等离子体刻蚀
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期刊:IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing 作者:Jeong Eun Choi; Hyoeun Park; Yongho Lee; Sang Jeen Hong 出版日期:2021-12-28 |
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