Comparison of Conventional and Maskless Lithographic Techniques for More than Moore Post-Processing of Foundry CMOS Chips

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标题	Comparison of Conventional and Maskless Lithographic Techniques for More than Moore Post-Processing of Foundry CMOS Chips 代工CMOS芯片超摩尔后处理的常规和无掩模光刻技术的比较相关领域光掩模 CMOS芯片光刻胶平版印刷术无光罩微影铸造厂薄脆饼炸薯条光刻材料科学计算光刻纳米技术计算机科学光电子学 X射线光刻电子束光刻抵抗电信冶金图层（电子）
网址	https://doi.org/10.1109/jmems.2020.3015964 AI链接 ac.uk ac.uk ac.uk ac.ukdoi.org
DOI	10.1109/jmems.2020.3015964 doi
其它	期刊：Journal of Microelectromechanical Systems 作者：Andreas Tsiamis; Yifan Li; Camelia Dunare; Jamie R. K. Marland; Ewen O. Blair; et al 出版日期：2020-10-01
求助人	广州城建职业技术学院在 2024-09-19 15:51:47 发布自广东，悬赏 10 积分
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