Effect of specularity parameter and convective coefficient on heat transport in semiconductor devices based on mesoscopic method

镜面反射度 介观物理学 MOSFET 材料科学 半导体 晶体管 场效应晶体管 凝聚态物理 对流 热力学 光电子学 光学 物理 电压 量子力学 镜面反射
作者
Oussama Zobiri,Abdelmalek Atia,Müslüm Arıcı
出处
期刊:Physica B-condensed Matter [Elsevier]
卷期号:670: 415363-415363
标识
DOI:10.1016/j.physb.2023.415363
摘要

The effects of thermal behavior on nanoscale Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor (nano-MOSFET) are still being studied by the semiconductor industry. This study investigates the heat diffusion inside double-gate (DG) and nano-conventional MOSFETs. Simulations of conventional and DG MOSFET are carried out using mesoscopic model lattice Boltzmann method (LBM) coupled with specularity parameter and convective heat transfer coefficient. The simulation results show that the specularity parameter and convective heat transfer term have important role to reduce hotspots in nano-devices. Temperature decreases when the specularity parameter and convective term increase. The temperature reaches 326.76 K for p = 0.1 while for p = 0.4 estimated 320.79 K at the same Rth−1=1010 W/(m2⋅K) in traditional device at t = 30 ps whereas the temperature in the double gate transistors reached 326.28 K and 321.48 K for p = 0.4 and 0.8, respectively. In addition, it is found that the conventional device compared with the double gate device is more heat stability.
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