A Thermodynamic Mechanism for PVT Growth Phenomena of SiC Single Crystals

材料科学 升华(心理学) 再结晶(地质) 相图 热力学 相变 六方晶系 相(物质) 结晶学 化学 心理学 生物 物理 古生物学 有机化学 心理治疗师
作者
Tatsuo Fujimoto,Noboru Ohtani,Hiroshi Tsuge,Masakazu Katsuno,Shinya Sato,Masashi Nakabayashi,Takayuki Yano
出处
期刊:ECS Journal of Solid State Science and Technology [The Electrochemical Society]
卷期号:2 (8): N3018-N3021 被引量:11
标识
DOI:10.1149/2.004308jss
摘要

Sublimation-recrystallization phenomena occurring during the PVT growth of SiC single crystals are examined from the viewpoint of quasi-equilibrium phase transition using pressure-dependent Si-C binary phase diagrams. From the results obtained, it is concluded that a thermodynamic interpretation for the PVT growth is consistently possible; the PVT process for SiC is comprised of a combination of elemental reactions driven by transition between phases at the growth temperatures. In addition, various phenomena observed during the PVT growth, such as silicon droplet formation, in-situ etching, and hexagonal void movement, are also discussed based upon the phase diagram, and possible mechanisms for these phenomena are proposed.

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