On the extraction of the source and drain series resistances of MOSFETs

萃取(化学) 等效串联电阻 MOSFET 系列(地层学) 电子工程 工程类 电气工程 电压 化学 色谱法 晶体管 地质学 古生物学
作者
Francisco J. García-Sánchez,A. Ortíz-Conde,Juin J. Liou
出处
期刊:Microelectronics Reliability [Elsevier]
卷期号:39 (8): 1173-1184 被引量:17
标识
DOI:10.1016/s0026-2714(99)00028-1
摘要

This article reviews and scrutinizes various proposed methods to extract the individual values of drain and source resistances (RD and RS) of MOSFETs, which are important device parameters for modeling and circuit simulation. In general, these methods contain three basic steps: (1) the extraction of the total drain and source resistance (RD+RS); (2) the extraction of the difference between the drain and the source resistances (RD−RS); and (3) the calculation of RD and RS from the knowledge of (RD+RS) and (RD−RS). These methods are tested and compared in the environments of circuit simulator, device simulation and measurements.
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