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In situ spectral reflectance analysis of the early stages of GaN thermal decomposition

材料科学 反射率 折射率 氮化镓 分解 光致发光 光学 漫反射红外傅里叶变换 热分解 漫反射 原位 光电子学 图层(电子) 化学 纳米技术 物理 光催化 生物化学 有机化学 冶金 催化作用
作者
W. Malek,M. Bouzidi,N. Chaaben,Abdullah S. Alshammari,A. Rebey
出处
期刊:Optik [Elsevier]
卷期号:265: 169491-169491 被引量:1
标识
DOI:10.1016/j.ijleo.2022.169491
摘要

The decomposition of GaN layers have been in situ monitored by a spectral reflectance system. A particular interest is given to the early stages of GaN decomposition. The analysis of the spectral reflectance behavior shows a rapid reflectance increase, which is associated with the formation of gallium metallic layer. After that, reflectance oscillates and damps with the processing time indicating the decomposition of the GaN layer. The transfer matrix formalism and the effective refractive index concept have been combined to understand the experimental recorded reflectance responses during GaN decomposition under H2 flux at high temperature. We have developed an effective refractive index formula taking into account the coexistence of gallium and GaN materials for fitting experimental results. This assumption has been validated as a good tool for the interpretation of the reflectance variations. Our results are confirmed and analyzed based on scanning electron microscopic (SEM) observations and photoluminescence measurements.
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