Thermal equilibrium concentration of intrinsic point defects in heavily doped silicon crystals - Theoretical study of formation energy and formation entropy in area of influence of dopant atoms-

掺杂剂 晶体缺陷 兴奋剂 空位缺陷 化学 Atom(片上系统) Crystal(编程语言) 结晶学 材料科学 化学物理 凝聚态物理 物理 有机化学 计算机科学 嵌入式系统 程序设计语言
作者
K. Kobayashi,S. Yamaoka,Koji Sueoka,Jan Vanhellemont
出处
期刊:Journal of Crystal Growth [Elsevier BV]
卷期号:474: 110-120 被引量:4
标识
DOI:10.1016/j.jcrysgro.2016.11.098

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