Unravelling the electromechanical coupling in a graphene/bulk h-BN heterostructure

石墨烯 材料科学 异质结 联轴节(管道) 纳米技术 光电子学 凝聚态物理 复合材料 物理
作者
Xingan Jiang,Xiangping Zhang,Xiangyan Han,Jianming Lü,Xueyun Wang,Jiawang Hong
出处
期刊:Nanoscale [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:14 (42): 15869-15874 被引量:1
标识
DOI:10.1039/d2nr04817e
摘要

The stacking heterostructure of graphene on bulk h-BN produces a moiré pattern with topographic corrugation. The corrugation of the moiré pattern expectantly induces a considerable curvature and a flexoelectric response, which calls for a detailed study. In this work, we used lateral force microscopy, a scanning technique to locally observe the moiré pattern and topographic corrugation. The curvature and flexoelectric potentials are derived from the measured topographic corrugation, revealing a huge curvature of ∼107 m-1 and a flexoelectric potential of ∼10 mV in the hexagonal domain wall region (∼3-4 nm) of the moiré pattern. In addition, the domain walls of the moiré pattern also generate a clear electromechanical and frictional response, arising from the corrugation-induced flexoelectric response. In summary, the results of this work provide insights into the understanding of the flexoelectricity in the graphene/bulk h-BN and its associated electromechanical coupling behavior in the moiré pattern of a van der Waals stacking heterostructure.
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