High temperature reliability and performance evaluation of 1200 V SiC MOSFETs

可靠性(半导体) 负偏压温度不稳定性 材料科学 光电子学 栅极电介质 电介质 阈值电压 表征(材料科学) MOSFET 可靠性工程 电子工程 电气工程 电压 纳米技术 晶体管 工程类 功率(物理) 物理 量子力学
作者
Guibao Wang,Lei Yuan,Xiaowen Wang,Yuming Zhang,Renxu Jia
出处
期刊:Journal of Crystal Growth [Elsevier]
卷期号:606: 127086-127086 被引量:4
标识
DOI:10.1016/j.jcrysgro.2023.127086
摘要

Reliability characteristics play a critical role in studied of SiC MOSFETs, including gate oxygen, long-term and short circuit reliability. This article presents a long-term reliability and device high temperature performance. Firstly, the static performance evaluation of the device at high temperature is introduced. Next, the gate bias test induces the threshold voltage shift, arguing that the instability is due to the capture of electrons by the SiC/SiO2 interface traps and the gate dielectric near-interface traps. Finally, the reliability characterization is verified using the common methods of high temperature reverse bias and high temperature gate bias tests. The results exhibit the superior reliability and performance of 1200 V SiC MOSFETs.

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