Clustering in gallium ion beam sputtered compound materials driven by bond strength and interstitial/vacancy reaction

纳米团簇 空位缺陷 化学键 离子 材料科学 化学物理 化学 原子物理学 结晶学 纳米技术 物理 有机化学 冶金
作者
Zhihui Ma,Xin Zhang,Pu Liu,Yong Deng,Wenyu Hu,Longqing Chen,Jianguo Zhu,Sen Chen,Zhengshang Wang,Yuechun Shi,Jian Ma,Xiaoyi Wang,Yang Qiu,Kun Zhang,X. Z. Cui,T. Walther
出处
期刊:Applied Physics Letters [American Institute of Physics]
卷期号:123 (10) 被引量:1
标识
DOI:10.1063/5.0161681
摘要

The investigation of chemical reactions during ion irradiation is a frontier for the study of the ion–material interaction. In order to probe the chemistry of ion produced nanoclusters, valence electron energy loss spectroscopy (VEELS) was exploited to investigate Ga+ ion damage in Al2O3, InP, and InGaAs, where each target material has been shown to react differently to the interaction between impinging ions, recoil atoms, and vacancies: metallic Ga, ternary InGaP clusters, and metallic In clusters are formed in Al2O3, InP, and InGaAs, respectively. Supporting simulations based on Monte Carlo and crystal orbital Hamiltonian calculations indicate that the chemical constitution of cascade induced nano-precipitates is a result of a competition between interstitial/vacancy consumption rates and preferential bond formation due to differing bond strengths.
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