Atomic faulting induced exceptional cryogenic strain hardening in gradient cell–structured alloy

材料科学 硬化(计算) 应变硬化指数 合金 平面的 变形(气象学) 堆积 变形机理 极限抗拉强度 位错 叠加断层 复合材料 微观结构 物理 计算机科学 计算机图形学(图像) 核磁共振 图层(电子)
作者
Qingsong Pan,Muxin Yang,Rui Feng,Andrew Chihpin Chuang,Ke An,Peter K. Liaw,Xiaolei Wu,N.R. Tao,Lei Lu
出处
期刊:Science [American Association for the Advancement of Science (AAAS)]
卷期号:382 (6667): 185-190 被引量:140
标识
DOI:10.1126/science.adj3974
摘要

Coarse-grained materials are widely accepted to display the highest strain hardening and the best tensile ductility. We experimentally report an attractive strain hardening rate throughout the deformation stage at 77 kelvin in a stable single-phase alloy with gradient dislocation cells that even surpasses its coarse-grained counterparts. Contrary to conventional understanding, the exceptional strain hardening arises from a distinctive dynamic structural refinement mechanism facilitated by the emission and motion of massive multiorientational tiny stacking faults (planar defects), which are fundamentally distinct from the traditional linear dislocation-mediated deformation. The dominance of atomic-scale planar deformation faulting in plastic deformation introduces a different approach for strengthening and hardening metallic materials, offering promising properties and potential applications.
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