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Stress mechanism analysis by finite element method for different dielectric films deposited with ion-beam assisted deposition on flexible substrates
材料科学
复合材料
电介质
残余应力
五氧化二钽
极限抗拉强度
光电子学
作者
Hsi-Chao Chen,
Yu-Ru Lu,
Chun‐Hao Chang
出处
期刊：
Thin Solid Films
[Elsevier]
日期：2024-02-04
卷期号：792: 140244-140244
标识
DOI：10.1016/j.tsf.2024.140244
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