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Interface modification of sputtered NiOx as the hole-transporting layer for efficient inverted planar perovskite solar cells

材料科学 钙钛矿(结构) 平面的 退火(玻璃) 薄膜 光电子学 非阻塞I/O 结晶学 纳米技术 复合材料 催化作用 计算机科学 生物化学 计算机图形学(图像) 化学
作者
Xiaolu Zheng,Zhaoning Song,Zhiliang Chen,Sandip S. Bista,Pengbin Gui,Niraj Shrestha,Cong Chen,Chongwen Li,Xinxing Yin,Rasha A. Awni,Hongwei Lei,Chen Tao,Randy J. Ellingson,Yanfa Yan,Guojia Fang
出处
期刊:Journal of Materials Chemistry C [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:8 (6): 1972-1980 被引量:74
标识
DOI:10.1039/c9tc05759e
摘要

An appropriately combined triple interface modification, i.e., post-annealing, O2-plasma, and KCl treatments, is employed to ameliorate the optoelectronic properties of sputtered NiOx films and achieve better device performance.
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